Военное агентство передовых исследований США DARPA в декабре 2009-го анонсировало программу Gratings of Regular Arrays and Trim Exposures (GRATE), нацеленную на разработку новых технологий проектирования интегральных схем и средств литографии на основе дифракционных решеток повышенного разрешения. Нынешние технологии производства чипов по норме 32-нм самоокупаются лишь при больших объемах выпуска, а военные желают создавать наноустройства с аналогичными характеристиками небольшими партиями, под специализированные задачи и за разумные деньги. Подрядчик GRATE, которому в итоге будет выделено 15 млн. долл., определится в 2010 г.

Версия для печати