25 октября корпорация Intel объявила о начале массового выпуска микропроцессоров с использованием 45-нм производственного процесса на новом заводе Fab 32 в американском штате Аризона. Первые 45-нм микрочипы были выпущены в январе 2007-го на экспериментальном производстве D1D, расположенном в штате Орегон. Планы Intel предусматривают открытие в будущем году 45-нм производства еще на двух заводах — в Израиле и США. На всех указанных предприятиях изготовление процессоров основано на применении 300-мм кремниевых подложек.
По информации Intel, на строительство завода Fab32, начавшееся в августе 2005 г., было выделено 3 млрд. долл. Общая производственная площадь завода превышает 110 тыс. м2, площадь “чистой комнаты”, относящейся к классу 1 — 19,8 тыс. м2.
Fab 32 станет одним из наиболее экологически безопасных предприятий Intel. На заводах, выпускающих процессоры с применением 300-мм подложек, расходуется на 40% меньше по сравнению с предприятиями, использующими 200-мм пластины, электроэнергии и воды в расчете на одну микросхему. Кроме того, на Fab32 предусмотрены дополнительные меры для экономии электроэнергии и воды; в частности, расход последней предполагается уменьшить не менее, чем на 70% за счет повторного использования отработанной воды. Помимо этого 45-нм производственный процесс дает возможность на 15% сократить тепловыделение в атмосферу.
Intel рассчитывает получить для Fab 32 сертификат соответствия LEED (Leadership in Energy and Environmental Design) — системе экологической оценки зданий, которая разработана американской организацией Green Building Council, устанавливающей стандарты экологической безопасности в строительстве.
