Корпорации Transmeta и NEC Electronics сообщили о заключении соглашения, по условиям которого NEC получит от Transmeta лицензию на технологию LongRun2 управления утечками в транзисторах для производства полупроводниковых приборов с проектными нормами 90, 65 и 45 нм. Предполагается, что процесс позволит уменьшить энергопотребление схем на 20%.
Кроме того, NEC Electronics купила небольшой пакет акций Transmeta на сумму в 25 млн. долл. в соответствии с их котировкой на 18 декабря 2003 г.
Технология LongRun2 представляет собой набор приемов, позволяющих уменьшить мощность, рассеиваемую при функционировании полупроводникового устройства, и снизить себестоимость производства.
Сначала NEC будет применять эту технологию при производстве систем на кристалле для мобильных устройств с применением проектных норм в 90 нм. Массовое производство таких систем начнется в 2005 г. Следующим шагом будет выпуск микросхем для серверов, после чего произойдет переход на 65 нм нормы, которые станут стандартом для выпуска различных микросхем.
А. Л.
