Компании ASML MaskTool и Micron Technology заключили долгосрочное соглашение о разработке усовершенствованного литографического оборудования.
Основные усилия будут направлены на создание оптических систем для выпуска микросхем с проектными нормами менее 95 нм.
По этому соглашению Micron купит глобальную лицензию на интеллектуальную собственность ASML MaskTools (см. выше), которая позволит ей производить микросхемы на своих фабриках. Кроме того, Micron приобретет оборудование MaskWeaver, использующее технику повышения разрешения (RET) и LithoCruiser для оптимизации работы сканеров.
Со своей стороны Micron предоставит доступ ASML к изготовлению высококачественных масок, что поможет последней наладить массовое производство схем на сканнере TWINSCAN ArF с проектными нормами 65 и 45 нм.
ASML и Micron уверены, что сотрудничество будет способствоватьрасширению возможностей литографического оборудования за счет увеличения глубины фокуса оптических систем, равномерности освещенности и сокращения времени экспозиции.
А. Л.
